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ASML:现有技术创新足以实现1nm工艺 摩尔定律可继续生效十年甚至更长时间

摘要: ASML日前表示,目前的技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点,包括诸多前瞻技术。此外,光刻系统分辨率的改进(预计每6年...

  ASML日前表示,目前的技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点,包括诸多前瞻技术。此外,光刻系统分辨率的改进(预计每6年左右缩小2倍)和边缘放置误差(EPE)对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小。从整个行业的发展路线来看,未来十年甚至更长时间内,技术创新将使摩尔定律继续生效。

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