ASML：现有技术创新足以实现1nm工艺 摩尔定律可继续生效十年甚至更长时间

　　ASML日前表示，目前的技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点，包括诸多前瞻技术。此外，光刻系统分辨率的改进（预计每6年左右缩小2倍）和边缘放置误差（EPE）对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小。从整个行业的发展路线来看，未来十年甚至更长时间内，技术创新将使摩尔定律继续生效。